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阻挠之下,光刻机、离子注入机、3nm都来了,美“出力”不少!

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发表于 2021-7-23 17:22:04|来自:中国浙江湖州 | 显示全部楼层 |阅读模式
美“阻拦”之下,国产半导体迎来新的改变!
这两天荷兰的ASML不仅公布了第二季度的财报,顺便还表示将会在来岁生产55台EUV光刻机,一时间不少网友表示是不是国内偶然机获得光刻机呢?但抱负与现实就是如此暴虐,要知道就在前不久有媒体爆料称美再一次对限制出口收紧,美欲与荷兰交涉,限制先辈光刻机出口于华,究竟其手里有光刻机比较核心的器件,美是可以或许控制这样的器件出口,所以这就不言而喻了!

早在2018年的时候中芯就曾斥巨资向荷兰购买先辈光刻机,但因为大家所熟知的缘故原由最后也没能“出货”!当然根据去年以及迩来荷兰那边的收益,国内市场占比照旧比较大的,所以ASML也想出货,究竟没谁会跟钱过不去,可限制之下也是无奈,而偏偏,就在这一次次的升级制裁之下,国内半导体,迎来了属于自己的突破!

缺什么造什么!
就目前而言全球也是三四家可以或许造光刻机的,但是先辈光刻机还只有荷兰一家,所以其售价也是巨高,但晶圆厂全球都是,于国内而言现在已经走到了7nm,没有先辈光刻机也只能暂时搁浅。
迩来传出美欲将再次限制,使得荷兰不能出口先辈光刻机,不过也有爆料称荷兰那边也一直处于“观望”状态,称“规矩办事”。
不过值得一提的就是固然老美不断地升级制裁,但是荷兰也是多次示好中国市场,乃至还表示,如果限制不放开,中国或将于三年内攻克相干技术。
今年初清华传来消息,表示在光源方面获得一定的突破,或将可以或许代替荷兰现在所接纳的光源解决方案。除此之外,中科院被爆出在高能辐射光源装备获得突破并进行了安装,而双工件台系统也获得一定的突破,这光刻机方面比较核心的技术一一获得突破,后面的希望想必也会顺遂不少。

此前至纯科技的清洗装备也进入到中芯、华虹等生产线中,固然只是28nm但已经是国内里比较先辈的,其14nm的装备也已经在路上!
另有研发难度仅次于光刻机的离子注入机也被中电科所攻克,而且已经进入中芯等生产线中!
上海前不久更是表示,将会对3nm芯片研发做出扶持,鼓励相干企业积极研发,其还指出将会在抛光、蚀刻、光刻等半导体装备方面加大力度。上海本身就是搜集了中芯、华为海思、上海微电子、中微半导体等企业的城市,如今对3nm工艺做出规划,想必今后的产业化模式也是逐渐建起来了。

美一次次的升级制裁,一次次的“阻拦”,但偏偏在这种限制之下,我们迎来了突破,缺什么我们就造什么,哪怕不是那么先辈的装备,但也是实现了从“无”到“有”的变化,而下一个阶段或许就是从“有”到“优”的质变!
我们固然底子比较薄弱,但是也在奋起直追。
或许令美也没有想到吧,本来是想限制以此来阻拦发展,怎样在限制之下,国内半导体越发的积极向上,我想这就是我们不服输的精神所在!
而SIA早在4月的时候就通过一组数据给出过结论,或许在未来十年,国内将成为世界级的芯片工厂。

只希望这一天早日到来吧!加油,中国芯!
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